ＰＷＣ　ＴＯＰＩＣＳ　２０10．8．23 インターオプト2010に平成21年度戦略的基盤技術高度化支援事業「コリメータアレイ用光ファイバ母材の高精度切消研磨加工技術の開発」（（株）フォトニックサイエンステクノロジ）を出展します。 Inter Opto ２０１０ 日時：2010年9月29日（水）〜2010年10月1日（金） 　　　　10：00〜17：00 場所：パシフィコ横浜（横浜市西区みなとみらい1-1-1） 詳細はインターオプトのホームページに掲載