インターオプト2010に平成21年度戦略的基盤技術高度化支援事業「コリメータアレイ用光ファイバ母材の高精度切消研磨加工技術の開発」（（株）フォトニックサイエンステクノロジ）を出展します。

Inter Opto ２０１０

日時：2010年9月29日（水）～2010年10月1日（金）10：00～17：00

場所：パシフィコ横浜（横浜市西区みなとみらい1-1-1）

詳細はインターオプトのホームページに掲載

2010-08-23(月) 09:28:00